パターン描画方法及び描画装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：鈴江武彦 , 村松貞男 , 坪井淳 , 橋本良郎 , 河野哲 , 中村誠 , 河井将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-287147
公開番号（公開出願番号）：特開2003-100582
特許番号：特許第3708858号
出願日： 2001年09月20日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】荷電粒子ビーム或いは電磁波ビームを用いて、感光性レジストが塗布された被処理基板上に所望の図形パターンを描画するパターン描画方法であって、所定偏向領域内の図形パターンの面積密度又は図形パターン毎の面積密度を算出し、この算出結果と描画時の基板温度との関係に基づいて、所定偏向領域毎又は所定偏向領域内の図形パターン毎に最大ショットサイズを決定することを特徴とするパターン描画方法。

IPC (2件)：