特許
J-GLOBAL ID：201103050899264038

インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェット記録ヘッドおよびインクジェット記録装置

発明者：
村上 圭一

村上 圭一 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-163005
公開番号（公開出願番号）：特開2000-351214
特許番号：特許第4298066号
出願日： 1999年06月09日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 インクを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子を駆動するための駆動素子が設けられた面を有する基板と、インクを吐出する吐出口が設けられ、前記基板とともにインクの流路を形成するオリフィスプレート材と、前記流路と連通し、前記流路にインクを供給するための供給口と、を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法において、 前記エネルギー発生素子と前記駆動素子とが複数設けられた、複数の前記基板を形成するためのシリコンウェハの面における前記駆動素子上にポリエーテルアミド樹脂からなる層を設けるとともに、前記ウェハの面の端部分の前記ウェハの面に設けられたシリコン酸化膜または窒化膜上に前記ウェハの面の内部を囲むように前記ポリエーテルアミド樹脂からなる層を設ける工程と、 前記ウェハ上に前記オリフィスプレート材を設ける工程と、 前記オリフィスプレート材と、前記ウェハの前記外周部位に設けられた前記ポリエーテルアミド樹脂からなる層と、を被覆するように前記ウェハ上に環化ゴムからなる保護層を設ける工程と、 前記ウェハの裏面から、前記ウェハに対してウェットエッチングを行い前記供給口を形成する工程と、 を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
B41J 2/05 ( 200 6.01) ,  B41J 2/16 ( 200 6.01)
FI (2件)：
B41J 3/04 103 B ,  B41J 3/04 103 H
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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