特許
J-GLOBAL ID：201103051030223214
クリーニング装置を備えたALD薄膜蒸着装置及びそのクリーニング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-213702
公開番号（公開出願番号）：特開2002-053963
特許番号：特許第3705426号
出願日： 2001年07月13日
公開日（公表日）： 2002年02月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ウェーハが内蔵されて蒸着される反応容器と、 第1反応ガスを前記反応容器に供給するための第1反応ガス供給部と、 第2反応ガスを前記反応容器に供給するための第2反応ガス供給部と、 前記第1反応ガス供給部と前記反応容器とを連結する第1反応ガス供給ラインと、 前記第2反応ガス供給部と前記反応容器とを連結する第2反応ガス供給ラインと、 不活性ガス供給源から供給される不活性ガスを前記第1反応ガス供給ラインに供給する第1不活性ガス供給ラインと、 不活性ガス供給源から供給される不活性ガスを前記第2反応ガス供給ラインに供給する第2不活性ガス供給ラインと、 前記反応容器内のガスを外部に排出する排気ラインと、 前記第1反応ガス供給ラインと連結されて、前記反応容器をクリーニングするためのクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給ラインとを含み、 前記反応容器は、 ウェーハが収納されるリアクターブロックと、 前記リアクターブロックを覆って所定の圧力を一定に保つシャワーヘッド板と、 前記シャワーヘッド板の下部に設けられるものであって、前記第1反応ガス供給ラインを経由して移送される第1反応ガス及び/又は不活性ガスを前記ウェーハの上部の表面に噴射するように前記ウェーハの上部に形成された多数の噴射口、及び前記第2反応ガス供給ラインを経由して移送される第2反応ガス及び/又は不活性ガスをウェーハの縁側に噴射するように前記リアクターブロックの内側壁の方向に斜めに形成された多数のノズルを有する拡散板と、 前記リアクターブロックの内部に設けられ、前記ウェーハが置かれるウェーハブロックとを含むことを特徴とするクリーニング装置を備えたALD薄膜蒸着装置。
IPC (2件)：
C23C 16/44
, H01L 21/3065
C23C 16/44 J
, H01L 21/302 101 H
