特許
J-GLOBAL ID:201103054286945755

遊離基重合法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 青山 葆 ,  山本 宗雄
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-553477
特許番号:特許第4288003号
出願日: 1999年01月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 (a)(i)式: [A]m-B 〔式中、 Aは、エチレン性不飽和かつ遊離基反応性の官能基を表し、 mは、1以上の整数であり、 Bは、以下の工程(b)の単色放射線源の波長において放射線を吸収する芳香族の、クロロの、およびその他の部分もしくは置換基が光開始剤の活性化が妨げられる程度には含まれていないm価の基を表す。〕 で表されるエチレン性不飽和かつ遊離基重合性のモノマ、二官能性および多官能性のアクリレートおよびメタクリレートのオリゴマから成る群から選択されるオリゴマ、またはそれらのブレンドと、(ii)ベンゾインおよびその誘導体、ベンジルケタール、アセトフェノン、アセトフェノン誘導体、アントラキノン、アントラキノン誘導体、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体、トリアジン誘導体ならびに2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1から成る群から選択される遊離基光開始剤とを含有している放射線重合性組成物で表面の少なくとも一部分にコーティングの施された可動ウェブを提供する工程と、 (b)各ランプがバルブ長さあたり10W/cm未満のインプットパワーを有する1個以上のランプを備えておりかつ該光開始剤を活性化するのに有効な波長を有する本質的に単色の放射線源を提供する工程と、 (c)該組成物を重合するのに十分な時間にわたって該放射線源により放出される前記放射線に該放射線重合性組成物を暴露する工程と、 を含んでなる重合方法。
IPC (8件):
C09D 4/06 ( 200 6.01) ,  B32B 27/32 ( 200 6.01) ,  B05D 7/24 ( 200 6.01) ,  B05D 7/00 ( 200 6.01) ,  C09D 183/07 ( 200 6.01) ,  C09J 7/02 ( 200 6.01) ,  C08F 2/50 ( 200 6.01) ,  C08F 290/14 ( 200 6.01)
FI (8件):
C09D 4/06 ,  B32B 27/32 Z ,  B05D 7/24 301 T ,  B05D 7/00 A ,  C09D 183/07 ,  C09J 7/02 Z ,  C08F 2/50 ,  C08F 290/14
引用特許:
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (13件)
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