特許
J-GLOBAL ID:201103058339071928
窒化物半導体紫外線発光素子
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
政木 良文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-049996
公開番号(公開出願番号):特開2011-187591
出願日: 2010年03月08日
公開日(公表日): 2011年09月22日
要約:
【課題】 In組成変調効果に頼らず活性層に発生する内部電界を緩和して発光効率の低下を抑制した窒化物半導体紫外線発光素子を提供する。【解決手段】 基板面或いは前記基板面上に形成された1層以上のAlGaN系半導体層からなるテンプレート5上に、少なくとも、n型AlGaN系半導体からなるn型クラッド層6、1層以上の量子井戸構造のAlGaN系半導体の活性層7、及び、p型AlGaN系半導体からなるp型クラッド層9が、順番に配置されており、活性層7の少なくとも1層の井戸層7b内部に、p型クラッド層9側からn型クラッド層6に向けてバンドギャップエネルギが減少するようにAl組成比に対する組成変調が設けられている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板面或いは前記基板面上に形成された1層以上のAlGaN系半導体層からなるテンプレート上に、少なくとも、n型AlGaN系半導体からなるn型クラッド層、単一または多重量子井戸構造のAlGaN系半導体の活性層、及び、p型AlGaN系半導体からなるp型クラッド層が、順番に配置されており、
前記活性層の少なくとも1層の井戸層内部に、前記p型クラッド層側から前記n型クラッド層に向けてバンドギャップエネルギが減少するようにAl組成比に対する組成変調が設けられていることを特徴とする窒化物半導体紫外線発光素子。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L33/00 186
, H01S5/343 610
Fターム (13件):
5F041AA03
, 5F041AA40
, 5F041CA04
, 5F041CA05
, 5F041CA40
, 5F041CA60
, 5F173AA01
, 5F173AF06
, 5F173AF15
, 5F173AG20
, 5F173AH22
, 5F173AR23
, 5F173AR81
引用特許:
審査官引用 (5件)
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窒化物系半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-021333
出願人:株式会社東芝
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窒化ガリウム系半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-258546
出願人:日本電気株式会社
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半導体発光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-314596
出願人:富士通株式会社
-
窒化物半導体素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-206144
出願人:株式会社東芝
-
紫外発光ダイオード
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-080891
出願人:日本電信電話株式会社
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