特許
J-GLOBAL ID：201103000256536246
現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
金本 哲男
, 亀谷 美明
, 萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-280047
公開番号（公開出願番号）：特開2011-124352
出願日： 2009年12月10日
公開日（公表日）： 2011年06月23日
要約：
【課題】基板上のEUV用レジスト膜に所定のレジストパターンを適切に形成する。【解決手段】ウェハW上にEUV用レジスト膜が形成された後、ウェハW上のEUV用レジスト膜にEUVが照射され、当該EUV用レジスト膜に所定のパターンが選択的に露光される。その後、2.38質量%未満の濃度であって、供給機器群138で5°C以上かつ23°C未満の温度に調節された現像液が、現像液ノズル133からウェハW上のEUV用レジスト膜に供給され、当該EUV用レジスト膜が現像される。このとき、現像処理時間は10秒以上かつ30秒未満である。その後、純水ノズル140からウェハW上に純水が供給され、当該ウェハWが洗浄される。このとき、純水の供給時間は30秒以下である。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板上に現像液を供給して、基板上のEUV用レジスト膜を現像する現像処理方法であって、
前記現像液の温度は5°C以上かつ23°C未満であることを特徴とする、基板の現像処理方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
5F046LA03
, 5F046LA13
, 5F146LA03
, 5F146LA13
