特許
J-GLOBAL ID：201103059166161434
渦流探傷方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曽々木 太郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-120038
公開番号（公開出願番号）：特開2000-310618
特許番号：特許第4164940号
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 探傷プローブを平板状の被検査材の表面に倣って移動させながら渦流探傷する渦流探傷方法であって、前記被検査材を、探傷開始端から所定範囲にある探傷開始部領域と、探傷終了端から所定範囲にある探傷終了部領域と、前記探傷開始部領域と前記探傷終了部領域との間の本体部領域とに分割し、前記探傷開始部領域においては、前記探傷プローブを前記被検査材表面から所定距離に維持し、本体部領域側から端部に向けて移動させて探傷をなし、前記本体部領域においては、前記探傷プローブを被検査材に倣わせながら探傷をなし、前記探傷終了部領域においては、前記探傷プローブを前記被検査材表面から所定距離に維持し、本体部領域側から端部に向けて移動させて探傷をなすことを特徴とする渦流探傷方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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