特許
J-GLOBAL ID：201103059789907798
洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-285875
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228380
特許番号：特許第4367587号
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】オゾンを含む水溶液に、オゾン以外のガスを添付してpHを制御し、被洗浄物に付着した有機物又は・及び金属不純物を除去する第1番目の工程と、
水素を含む水溶液に、水素以外のガスを添付してpHを制御し、500kHz以上の振動を与えながら、被洗浄物に付着した微粒子を除去する第2番目の工程と、
フッ化水素酸、又は過酸化水素水を含む水溶液により金属不純物又は・及びシリコン酸化膜を除去する第3番目の工程と、
水素ガスを含む水溶液に500kHz以上の振動を与え、前記第1〜3番目の工程の薬液の除去又は・及び微粒子の除去と再付着防止を目的とした第4番目の工程とを備え、
前記第1番目の工程〜第4番目の工程を室温で行い、被洗浄物に損傷を与えないことを特徴とする洗浄方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ( 200 6.01)
, B08B 3/12 ( 200 6.01)
H01L 21/304 642 B
, H01L 21/304 642 E
, H01L 21/304 641
, B08B 3/12 A
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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