特許
J-GLOBAL ID：201103060716641321
投影光学系、投影光学装置、走査型露光装置、光加工方法および露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-141607
公開番号（公開出願番号）：特開2000-039557
特許番号：特許第4235778号
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年02月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】所定波長を含む第1の物体からの光を第2の物体に結像して、前記第1の物体の像を前記第2の物体上へ投影する投影光学系において、
正の屈折力を有する正レンズ群と、負の屈折力を有する負レンズ群と、凹面反射鏡とを備え、
前記正レンズ群、前記負レンズ群及び前記凹面反射鏡は、前記第1物体からの光が前記正レンズ群及び前記負レンズ群を順に経て前記凹面反射鏡に達し、前記凹面反射鏡にて反射された光が前記負レンズ群及び前記正レンズ群を順に経て前記第2物体へ向かうように配置され、
前記負レンズ群は、第1凹面形状の屈折力面を有する負レンズと、該負レンズと前記凹面反射鏡との間に配置されて第2凹面形状の屈折力面を有するメニスカスレンズとを少なくとも含み、
前記正レンズ群と前記負レンズ群との間に形成される空間の光軸に沿った距離をDとし、前記負レンズ群における前記負レンズと前記メニスカスレンズとの間に形成される空間の光軸に沿った距離をLとするとき、以下の関係を満足することを特徴とする投影光学系。
0.01<L/D<0.5
IPC (3件)：
G02B 13/24 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G02B 13/24
, G03F 7/20 501
, H01L 21/30 515 D
