特許
J-GLOBAL ID：201103060922930240

露光パターンデータ生成方法、露光パターンデータ生成装置、半導体装置の製造方法、及びフォトマスクの製造方法

発明者：
稲浪 良市

稲浪 良市 について

, 
馬越 俊幸

馬越 俊幸 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (7件)： 三好 秀和 ,  岩▲崎▼ 幸邦 ,  川又 澄雄 ,  中村 友之 ,  伊藤 正和 ,  高橋 俊一 ,  高松 俊雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-087930
公開番号（公開出願番号）：特開2001-274071
特許番号：特許第3886695号
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】キャラクタ・プロジェクション露光のための、荷電ビーム成形用のアパーチャが有する透過孔の形状に一致するスタンダードセルに係わる情報を用いて電子回路の論理合成を行い、ネットリストを生成する工程と、 前記情報及び前記ネットリストを用いて前記スタンダードセルの配置配線を行う工程と、 前記配置配線されたスタンダードセルに一致する形状の前記透過孔の、前記アパーチャ上の位置を記述したパターンデータを生成する工程 とを含むことを特徴とする露光パターンデータ生成方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H01L 21/82 ( 200 6.01)
FI (6件)：
H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 J ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/82 B ,  H01L 21/82 C
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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