特許
J-GLOBAL ID：201103061567115731
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-040071
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243717
特許番号：特許第3645115号
出願日： 1999年02月18日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、 基板に前記処理を行うための処理空間および基板の搬出入を行うための開口部を形成するチャンバと、 前記開口部を開閉する開口部開閉手段と、 前記チャンバに連結され、前記チャンバに排気用力を供給する排気経路と、 前記排気経路中に設けられ、前記チャンバに対する排気圧を切り換えるガス圧式のシリンダと、 前記チャンバにガスを供給するガス供給手段と、 を備え、 前記ガス圧式のシリンダは、 基板の搬出入時に前記開口部が開放されているときには前記チャンバに対する排気圧を小排気圧とし、前記チャンバ内のガス置換時に前記開口部が閉鎖されて前記チャンバに前記ガス供給手段からガス供給が行われているときには前記チャンバに対する排気圧を前記小排気圧よりも大きい大排気圧とすることを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (3件)
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