特許
J-GLOBAL ID：201103063434906674

固体撮像素子及びその製造方法並びに撮像装置

発明者：
永瀬 正規

永瀬 正規 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-234357
公開番号（公開出願番号）：特開2011-082386
出願日： 2009年10月08日
公開日（公表日）： 2011年04月21日
要約：
【課題】有効画素領域とOB部との暗電流差を無くし、また、OB部における寄生MOS効果も抑制する。【解決手段】半導体基板の表面部に形成された複数のフォトダイオード(PD)と、前記表面部を覆う反射防止膜54と、表面部のPDが形成された領域を中央部分の有効画素領域と周囲のOB部とに分け有効画素領域のPD42aの個々の受光面以外を覆う遮光膜55とを備える固体撮像素子であって、有効画素領域の反射防止膜54のうち有効画素領域内のPD42aの受光面以外の箇所が削除されると共にOB部のPD42bの受光面に相当する領域上の反射防止膜54が削除され、OB部を覆う遮光膜55と前記受光面に相当する領域との間に形成される第1絶縁層(x)が、有効画素領域のPD42aの受光面と該受光面に対面する遮光膜55の開口端部との間の反射防止膜54を除いた第2絶縁層(y)より厚く形成される。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
半導体基板の表面部に二次元アレイ状に配列形成された複数のフォトダイオードと、前記表面部を覆う反射防止膜と、前記表面部の前記フォトダイオードが形成された領域を中央部分の有効画素領域と該有効画素領域の周囲のオプティカルブラック部とに分け該有効画素領域の前記フォトダイオードの個々の受光面以外を覆う遮光膜とを備える固体撮像素子であって、前記有効画素領域の前記反射防止膜のうち該有効画素領域内の前記フォトダイオードの受光面以外の箇所が削除されると共に前記オプティカルブラック部の前記フォトダイオードの受光面に相当する領域上の前記反射防止膜が削除されて形成され、該オプティカルブラック部の前記受光面に相当する領域を覆う前記遮光膜と該受光面に相当する領域との間に形成される第1絶縁層(x)が、前記有効画素領域の前記フォトダイオードの受光面と該受光面に対面する前記遮光膜の開口端部との間の前記反射防止膜を除いた第2絶縁層(y)より厚く形成される固体撮像素子。
IPC (3件)：
H01L 27/14 ,  H04N 5/335 ,  H01L 27/148
FI (4件)：
H01L27/14 D ,  H04N5/335 F ,  H04N5/335 U ,  H01L27/14 B
Fターム (22件)：
4M118AB01 ,  4M118BA13 ,  4M118CA04 ,  4M118CA32 ,  4M118CA34 ,  4M118DA18 ,  4M118DA20 ,  4M118EA01 ,  4M118EA14 ,  4M118EA15 ,  4M118GB03 ,  4M118GB09 ,  4M118GB11 ,  4M118GB19 ,  5C024AX01 ,  5C024CX32 ,  5C024CY47 ,  5C024GX03 ,  5C024GX07 ,  5C024GY01 ,  5C024GZ36 ,  5C024HX12
引用特許：
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM