処理装置及びドライクリーニング方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：亀谷美明 , 金本哲男 , 萩原康司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-205213
公開番号（公開出願番号）：特開2002-115066
特許番号：特許第3681998号
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】処理室内に収容された被処理体に対して金属又はその化合物を成膜させる処理装置において行われるプラズマレスのドライクリーニングのために、少なくとも三フッ化塩素(ClF3)又は三フッ化窒素(NF3)を含むクリーニングガスを前記処理室内に導入するためのガス導入手段と、後処理として少なくともアルコール類を含むガスを前記処理室内に導入するためのガス導入手段とを設けたことを特徴とする、処理装置。

IPC (1件)：