特許
J-GLOBAL ID：201103064926733038
X線マスク及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 詔男 (外3名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297452
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118779
特許番号：特許第3303858号
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 X線透過膜上に選択的に形成されたX線吸収体を有するX線マスクであって、前記X線吸収体が、TaSiAl、TaSiTi、TaSiCr、TaSiMo、TaSiCu、TaGeAl、TaGeTi、TaGeCr、TaGeMoおよびTaGeCuからなる群から選ばれる1種の合金を含んでいることを特徴とするX線マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 M
