セリウム化合物研磨剤及び基板の研磨法

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135098
公開番号（公開出願番号）：特開2000-328044
特許番号：特許第4277243号
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】硫酸セリウム(IV)、硝酸セリウム(IV)、硫酸アンモニウムセリウム(IV)、硝酸アンモニウムセリウム(IV)及びそれらの水和物からなる群より選ばれる少なくとも1種である4価のセリウムイオンを含む溶液に塩基性物質を加えることにより得られるコロイドを含むセリウム化合物研磨剤。

IPC (4件)：

C09K 3/14 ( 200 6.01) , B24B 37/00 ( 200 6.01) , C01F 17/00 ( 200 6.01) , H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C09K 3/14 550 D , C09K 3/14 550 Z , B24B 37/00 H , C01F 17/00 Z , H01L 21/304 622 D

引用特許：

出願人引用 (5件)

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審査官引用 (6件)

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引用文献：

出願人引用 (1件)

審査官引用 (1件)

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