特許
J-GLOBAL ID:201103065297979483
基板塗布装置
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
米田 潤三
, 皿田 秀夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-042819
公開番号(公開出願番号):特開2000-237672
特許番号:特許第4351321号
出願日: 1999年02月22日
公開日(公表日): 2000年09月05日
請求項(抜粋):
【請求項1】 載置面をほぼ垂直位置と塗布位置とに変更可能な基板載置部材と、塗布位置にある基板載置部材の載置面上に保持されている基板に塗布液を塗布するための塗布手段と、を備えた塗布部と、
塗布面を垂直あるいは僅かに上向きに傾斜させて保持可能な真空チャンバーを備えた乾燥部と、
基板を垂直状態で保持するための保持部材と、載置面をほぼ垂直位置とした状態の前記基板載置部材と前記乾燥部との間で前記保持部材を往復移動させるための保持部材駆動部と、を備えた基板搬送部と、
を有し、前記真空チャンバーは、後壁部に設けられた排気口と、塗布面を垂直あるいは僅かに上向きに傾斜させて保持される基板と前記後壁部との間に配設された整流板とを備え、前記排気口は整流板の略中央部に位置することを特徴とする基板塗布装置。
IPC (2件):
B05C 13/02 ( 200 6.01)
, B05C 9/10 ( 200 6.01)
FI (2件):
引用特許: