特許
J-GLOBAL ID:201103069489736571

発光ダイオードおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (10件): 中村 稔 ,  大塚 文昭 ,  熊倉 禎男 ,  宍戸 嘉一 ,  竹内 英人 ,  今城 俊夫 ,  小川 信夫 ,  村社 厚夫 ,  西島 孝喜 ,  箱田 篤
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-154957
公開番号(公開出願番号):特開2000-031539
特許番号:特許第4677065号
出願日: 1999年06月02日
公開日(公表日): 2000年01月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板(12)と、 前記基板上に形成されたバッファ層(14)と、 前記バッファ層上に形成され、酸素に対して親和力を持つドーパントを含む界面層(16)と、 前記界面層上に形成されたn型層(18)と、 前記n型層上に形成された活性領域(20)と、 前記活性領域上に形成されたp型層(22)と、 一方が前記n型層に接続されており、他方が前記p型層に接続された2つの電気コンタクト(24A、24B)と、 を備えて成り、 前記ドーパントが、Mg、Zn、およびCdのうちの1つである発光ダイオード(10)。
IPC (2件):
H01L 33/12 ( 201 0.01) ,  H01L 21/20 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 33/00 140 ,  H01L 21/20
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (11件)
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