特許
J-GLOBAL ID:201103069489736571
発光ダイオードおよびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (10件):
中村 稔
, 大塚 文昭
, 熊倉 禎男
, 宍戸 嘉一
, 竹内 英人
, 今城 俊夫
, 小川 信夫
, 村社 厚夫
, 西島 孝喜
, 箱田 篤
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-154957
公開番号(公開出願番号):特開2000-031539
特許番号:特許第4677065号
出願日: 1999年06月02日
公開日(公表日): 2000年01月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板(12)と、
前記基板上に形成されたバッファ層(14)と、
前記バッファ層上に形成され、酸素に対して親和力を持つドーパントを含む界面層(16)と、
前記界面層上に形成されたn型層(18)と、
前記n型層上に形成された活性領域(20)と、
前記活性領域上に形成されたp型層(22)と、
一方が前記n型層に接続されており、他方が前記p型層に接続された2つの電気コンタクト(24A、24B)と、
を備えて成り、
前記ドーパントが、Mg、Zn、およびCdのうちの1つである発光ダイオード(10)。
IPC (2件):
H01L 33/12 ( 201 0.01)
, H01L 21/20 ( 200 6.01)
FI (2件):
H01L 33/00 140
, H01L 21/20
引用特許:
出願人引用 (8件)
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特開昭63-198320
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窒化ガリウム系半導体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-310333
出願人:松下電器産業株式会社
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特開平4-249391
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審査官引用 (11件)
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特開昭63-198320
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特開昭63-198320
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窒化ガリウム系半導体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-310333
出願人:松下電器産業株式会社
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