パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-052385
公開番号（公開出願番号）：特開2011-186247
出願日： 2010年03月09日
公開日（公表日）： 2011年09月22日
要約：

【課題】線幅バラツキに優れたパターンを形成できるとともに、露光ラチテュード及び、感度に優れたパターン形成方法及びこれに用いる化学増幅レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物、(C)架橋剤、及び、(D)溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の膜を露光し、有機溶剤を含む現像液を用いて現像するパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(ア)化学増幅型レジスト組成物により膜を形成する工程、 (イ)該膜を露光する工程、及び、 (ウ)有機溶剤を含む現像液を用いて現像する工程、を含むパターン形成方法であり、前記化学増幅型レジスト組成物が、 (A)樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(I)又は(II)で表される化合物、 (C)架橋剤、及び、 (D)溶剤、を含有することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (6件)：

G03F 7/004 , G03F 7/038 , G03F 7/32 , H01L 21/027 , C08F 220/10 , G03F 7/039

FI (7件)：

G03F7/004 503A , G03F7/004 501 , G03F7/038 601 , G03F7/32 , H01L21/30 502R , C08F220/10 , G03F7/039 601

Fターム (77件)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096EA05 , 2H096GA03 , 2H125AE04P , 2H125AE05P , 2H125AE06P , 2H125AF19P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF22P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH12 , 2H125AH14 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH22 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AH29 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ16Y , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ66X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AJ92Y , 2H125AM22P , 2H125AM23P , 2H125AM25P , 2H125AM27P , 2H125AM30P , 2H125AM32P , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125AN65P , 2H125AN86P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC17 , 2H125CD05P , 2H125CD37 , 2H125CD38 , 2H125FA05 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL09P , 4J100BA02P , 4J100BA03P , 4J100BA15R , 4J100BA40Q , 4J100BC03R , 4J100BC04R , 4J100BC09P , 4J100BC09R , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (8件)

感刺激性組成物及び化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-106524 出願人：富士写真フイルム株式会社
ネガ型感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-030114 出願人：JSR株式会社
ネガ型感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-228885 出願人：JSR株式会社

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