特許
J-GLOBAL ID:201103071021222923

素子の選択転写方法、画像表示装置の製造方法及び液晶表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 角田 芳末 ,  磯山 弘信
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-382759
公開番号(公開出願番号):特開2002-182580
特許番号:特許第4538951号
出願日: 2000年12月15日
公開日(公表日): 2002年06月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第一基板上の複数の素子から一部の素子を選択的に第二基板上に転写する素子の選択転写方法において、 光透過性の基板である前記第一基板上に複数の素子を形成する工程と、 熱可塑性樹脂層を前記第二基板の表面に形成する工程と、 前記素子の前記第一基板側の界面もしくは前記素子と前記第一基板との間に形成された剥離層における、前記第一基板を透過したエネルギービームの照射によるアブレーションを利用することによって、前記複数の素子の内の一部の素子を選択的に前記第一基板から剥離する工程と、 前記剥離された素子が前記熱可塑性樹脂層に入り込むようにして、前記熱可塑性樹脂層に前記剥離された素子を選択的に保持させることで前記第二基板に前記素子を選択的に転写する工程とを有する 素子の選択転写方法。
IPC (7件):
G09F 9/00 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1368 ( 200 6.01) ,  H01L 21/02 ( 200 6.01) ,  H01L 27/12 ( 200 6.01) ,  H01L 21/336 ( 200 6.01) ,  H01L 29/786 ( 200 6.01) ,  H01L 33/00 ( 201 0.01)
FI (5件):
G09F 9/00 338 ,  G02F 1/136 ,  H01L 27/12 B ,  H01L 29/78 627 D ,  H01L 33/00
引用特許:
審査官引用 (6件)
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