位相シフトマスクの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-156505
公開番号（公開出願番号）：特開2001-337438
特許番号：特許第4654487号
出願日： 2000年05月26日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】透明基板上に露光光の位相を反転する位相シフタ膜がモリブデンシリサイドの酸化物およびモリブデンシリサイドの酸化窒化物からなる群より選択される少なくとも1種類の材料から形成されてなる位相シフトマスクの製造方法において、前記位相シフトマスクをアルカリ金属の水酸化物の水溶液に浸漬して、前記透明基板および前記位相シフタ膜をエッチングすることにより、前記透明基板のみを透過する前記露光光の位相と、透明基板と位相シフタ膜を透過する前記露光光の位相の差を調整する工程を具備することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。

IPC (2件)：