特許
J-GLOBAL ID:201103072185088604
基板検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 風間 鉄也
, 水野 浩司
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-076717
公開番号(公開出願番号):特開2000-266638
特許番号:特許第4256974号
出願日: 1999年03月19日
公開日(公表日): 2000年09月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 被検査基板を保持する被検査基板保持手段と、
前記被検査基板保持手段を反転可能に支持する第1の支持手段と、
前記被検査基板保持手段を水平位置から所定の角度に起傾可能に支持する第2の支持手段と、
前記第2の支持手段により水平位置に戻された前記被検査基板保持手段の両側に対して平行に設けられた一対の観察ユニット支持部用ガイドレールと、
前記観察ユニット支持部用ガイドレールに移動可能に設けられ、前記被検査基板保持手段を跨ぐように門型に形成された観察ユニット支持部と、
前記観察ユニット支持部に対して水平方向に移動可能に設けられた観察ユニットと、
前記第2の支持手段により前記被検査基板を保持した前記被検査基板保持手段を所定の角度に立ち上げた状態で前記被検査基板の上方から照明光を照射するマクロ照明手段と、
前記被検査基板保持手段の側縁のY方向とX方向に沿って前記被検査基板保持手段上に一体に設けられたX方向とY方向との位置検出部用ガイドスケールと、
前記X方向とY方向との位置検出部用ガイドスケールのそれぞれに移動可能に設けられ、これらガイドスケールに対してそれぞれ直交する方向へレーザ光を出射する一対の位置検出部と、
前記一対の位置検出部を前記位置検出部用ガイドスケールに沿って移動させて前記被検査基板上の欠陥部に各レーザ光を一致させたときの前記各ガイドスケールの値から前記欠陥部の位置座標を求め、前記第2の支持手段により前記被検査基板保持手段を水平位置に戻した状態で前記欠陥部の位置座標に基づいて前記観察ユニット支持部と前記観察ユニットを移動制御する制御部と、
を具備したことを特徴とする基板検査装置。
IPC (2件):
G01M 11/00 ( 200 6.01)
, G01N 21/88 ( 200 6.01)
FI (2件):
G01M 11/00 T
, G01N 21/88 Z
引用特許:
出願人引用 (5件)
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カラーフィルター検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-085761
出願人:大日本印刷株式会社
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基板検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-268390
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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微細欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-106311
出願人:住友化学工業株式会社
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審査官引用 (5件)
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カラーフィルター検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-085761
出願人:大日本印刷株式会社
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基板検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-268390
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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微細欠陥検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-106311
出願人:住友化学工業株式会社
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