プラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外5名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-244904
公開番号（公開出願番号）：特開2001-068458
特許番号：特許第3310957号
出願日： 1999年08月31日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】プラズマによってエッチング処理される対象となる導電層を有する試料を格納可能なチャンバーと、前記チャンバーに弗素を含むガスを導入するガス導入口と、前記ガスから前記プラズマを生成するマイクロ波を前記チャンバーに導入し、少なくとも前記プラズマに露出する部分が石英からなるマイクロ波導入機構とを備え、前記マイクロ波導入機構は、石英製のマイクロ波導入窓を有し、前記石英製のマイクロ波導入窓は、通過孔を有する導体の前記通過孔を充填して設けられている、プラズマ処理装置。

IPC (3件)：