特許
J-GLOBAL ID：201103074638125819
マスクパターン転写方法、マスクパターン転写装置、デバイス製造方法及び転写マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
宮崎 昭夫
, 岩田 慎一
, 緒方 雅昭
, 金田 暢之
, 石橋 政幸
, 伊藤 克博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010763
公開番号（公開出願番号）：特開2000-200746
特許番号：特許第4154057号
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 分割され、かつ、区別可能な複数の部分転写パターンを有する転写マスクを用い、前記転写マスクを介して被転写物に転写ビームを照射し、前記各部分転写パターンを前記被転写物に順次転写することで、前記被転写物に前記各部分転写パターンを繋ぎ合わせた所望のパターンを得るマスクパターン転写方法において、
前記転写マスクに、前記各部分転写パターンのそれぞれに関連づけられた複数のアライメントマークを設けておき、前記被転写物と前記各アライメントマークとの相対位置を補正し、前記各部分転写パターンを前記被転写物に順次転写し、
前記相対位置の補正は、前記各アライメントマークを指定する転写マスクマーク指定工程と、
前記転写マスクマーク指定工程により指定された前記各アライメントマークの位置を計測し、計測された位置から前記各部分転写パターンの実際の座標系を算出する工程、及び前記各部分転写パターンの設計上の座標系と前記各部分転写パターンの実際の座標系との相対関係を表す第1の座標パラメータを算出する工程からなる第1の相対座標処理工程と、
前記各部分転写パターンを前記被転写物に順次転写する際、前記第1の座標パラメータを用いて、前記被転写物に対して前記各部分転写パターンの像を相対移動させる転写マスク相対移動工程と、を含み、
前記第1の相対座標処理工程における、前記各部分転写パターンの実際の座標系を算出する工程は、
前記各アライメントマークの位置の計測を、製作上の前記転写マスクの前記各部分転写パターンに対して行っておき、これを基にした製作上の座標格子を規定する工程と、
前記各アライメントマークの位置の計測を、実際の前記転写マスクの前記各部分転写パターンに対して行い、これを基にした実際の座標格子を規定する工程と、
前記実際の座標格子から前記製作上の座標格子を差し引いて第1の変動分格子を算出する工程と、
前記第1の変動分格子と前記製作上の座標格子とに基づいた第1の補正格子を算出する工程とを含むことを特徴とするマスクパターン転写方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, G03F 9/00 ( 200 6.01)
H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 520 Z
, H01L 21/30 525 W
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
