保護膜および保護膜作成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：永井冬紀
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-076105
公開番号（公開出願番号）：特開2002-279605
特許番号：特許第3624843号
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】保持手段により磁気記録媒体に対向する位置に保持されてCSS(Contact Start and Stop)動作により前記磁気記録媒体に対する記録および/または再生を行う磁気ヘッドに形成される保護膜であって、前記磁気ヘッドの前記磁気記録媒体に対向する被保護面を覆うように形成され、前記被保護面上にSi膜、DLC(diamondlike carbon)膜およびta-C(tetrahedral amorphous carbon)膜の順に各膜を形成して成る保護膜。

IPC (4件)：