特許
J-GLOBAL ID：200903093149109920
保護膜および複合成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-327310
公開番号（公開出願番号）：特開2001-195717
出願日： 2000年10月26日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：
【要約】【課題】 耐腐食性および耐摩耗性に優れた保護膜の提供。【解決手段】 磁気ディスク3に対してデータの記録および/または再生を行う磁気ヘッド1に形成され、磁気センサ5の面Bを覆うようにECR-CVD法および/またはIBD法により形成されるDLC膜7と、DLC膜7の上にFCVA(Filtered Cathodic Vacuum Arc)法で形成されて磁気ディスク3に接触する耐摩耗性のta-C膜9とで保護膜を構成したことにより、耐腐食性および耐摩耗性を兼ね備える保護膜を形成するこができる。
請求項（抜粋）：
磁気記録媒体に対してデータの記録および/または再生を行う磁気ヘッドに形成され、ヘッド基板面を覆うように形成される耐腐食膜と、前記耐腐食膜の上に形成されて前記磁気記録媒体に接触する前記耐腐食膜よりも耐摩耗性の高い耐摩耗膜とで構成したことを特徴とする保護膜。
IPC (3件)：
G11B 5/60
, G11B 5/187
, G11B 21/21 101
G11B 5/60 B
, G11B 5/187 K
, G11B 21/21 101 K
5D042NA02
, 5D042PA10
, 5D042QA03
, 5D042SA03
, 5D111AA13
, 5D111AA24
, 5D111FF01
, 5D111FF39
, 5D111GG09
, 5D111HH08
, 5D111JJ04
, 5D111JJ06
, 5D111KK07
