特許
J-GLOBAL ID：201103075253769380
リソグラフ投影装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 森 徹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-065234
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269130
特許番号：特許第3771414号
出願日： 2000年03月09日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 マスク内のマスクパターンを基板上に結像させるためのリソグラフ投影装置において、
放射投影ビームを供給するために構成、配置された照明システムと、
マスクを保持するために構成されたマスクホルダーを備えた第1対物テーブルと、
基板を保持するために構成された基板ホルダーを備えた第2対物テーブルと、
マスクの照射された部分を基板のターゲット部分の上へ結像させるために構成、配置された投影システムとを具備し、前記照明システムが、
前記投影ビームの拡散を制御するために構成、配置された散乱装置を有し、該散乱装置が1次元的な列になった曲がった反射要素を含み、その各々が細い平行入射ビームを扇曲線として反射するような曲線表面に合致し、
さらに、
放射光源から前記散乱装置上へ放射する放射光を向けるために構成、配置された第1中継装置、および、
前記散乱装置のイメージを前記投影システムの入射ひとみ上で発生させるために構成、配置されている、楕円形の直角入射に近いミラーを備える第2中継装置、
を備えることを特徴とするリソグラフ投影装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G02B 5/02 ( 200 6.01)
, G02B 5/08 ( 200 6.01)
, G02B 19/00 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
H01L 21/30 531 A
, G02B 5/02 C
, G02B 5/08 B
, G02B 19/00
, G03F 7/20 502
