パターン検査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：鈴江武彦 , 村松貞男 , 橋本良郎 , 河野哲 , 中村誠 , 河井将次
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-297452
公開番号（公開出願番号）：特開2002-107912
特許番号：特許第4131899号
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】パルスレーザ光を発生するパルスレーザ光源と、該光源からの光を被検物上へ均一に照射する照明光学系と、該照明光学系により照明された前記被検物からの光を集光して前記被検物の像を形成する結像光学系と、該光学系により得られた前記被検物の像を所定の矩形領域単位で検出する検出系と、該検出系により得られた画像データと予め用意された比較参照用のデータとを比較してパターンの欠陥を検出する比較回路系と、前記被検物を載置したステージを2次元的に走査するステージ駆動系とを具備してなるパターン検査装置であって、前記検出系は、複数の面型検出器からなり、前記光源から出力される光パルスに同期して、1パルスにつき全ての面型検出器が1回の取り込みを行うものであり、前記面型検出器の検出面をLsx(長さ)×Lsy(長さ)の長方形としたとき、該面型検出器はy方向にLsyの間隔を空けてN個並べて配置され、前記ステージ駆動系は、各々の面型検出器の検出面と共役な被検物上の領域をLx(長さ)×Ly(長さ)の長方形とし、前記光源から出力される光パルスの周波数をFとしたとき、x方向へLxF/nの速度で連続移動した後、y方向へLyのステップ移動を行い、その後x方向へLxF/nの速度で連続移動した後、y方向へLy(2N-1)のステップ移動する動作を繰り返すことにより、被検物上を隙間無く走査し、前記比較回路系は、前記ステージの位置データと前記検出系から得られる画像データより、前記検出器上の1画素に相当する被検物上の座標それぞれについて得られるn個の画像情報を平均化し、該平均化したデータと予め用意された比較参照用データとを比較することを特徴とするパターン検査装置。

IPC (5件)：

G03F 1/08 ( 200 6.01) , G01B 11/30 ( 200 6.01) , G01N 21/956 ( 200 6.01) , G06T 1/00 ( 200 6.01) , H01L 21/66 ( 200 6.01)

FI (9件)：

G03F 1/08 S , G01B 11/30 A , G01N 21/956 A , G06T 1/00 305 A , G06T 1/00 400 D , G06T 1/00 420 F , G06T 1/00 420 C , G06T 1/00 430 H , H01L 21/66 J

引用特許：

出願人引用 (4件)

検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-118255 出願人：株式会社ニコン
マスク欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-164172 出願人：株式会社東芝
光学的検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-186159 出願人：オーボット・インストゥルメンツ・リミテッド

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審査官引用 (4件)

マスク欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-164172 出願人：株式会社東芝
光学的検査方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-186159 出願人：オーボット・インストゥルメンツ・リミテッド
検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-118255 出願人：株式会社ニコン

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