特許
J-GLOBAL ID：201103075786879470
光半導体モジュールの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 内藤 浩樹
, 永野 大介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-160508
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346628
特許番号：特許第4320845号
出願日： 1999年06月08日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】光半導体素子から出射された拡散光を集光レンズを用いて集光し、光ファイバの入射端に入射せしめ、前記光ファイバを伝送媒体として情報伝達を行う光半導体モジュールの製造方法であって、前記光ファイバから出力光を第1及び第2の出力光に分割し、前記第1の出力光の光量が最大となる位置に光軸調整を行い、つぎに、前記光ファイバを光軸と略平行な方向に所定距離移動させて、前記光半導体素子、前記集光レンズ、前記光ファイバの少なくとも何れか一つを光軸と略平行な方向に連続的に加振し、前記第1の出力光で入射光量を測定し、前記第2の出力光で入射光量変動量を測定して、前記光ファイバを前記入射光量変動量が最大となる位置より部品の固定時及び使用環境温度による位置ずれ量の分だけ光軸方向に移動した位置に光軸調整を行うことを特徴とする光半導体モジュールの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (14件)
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