特許

J-GLOBAL ID：201103077887516460

基板処理装置

発明者： 芳谷 光明
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (2件)： 小野 由己男 ,  宮川 良夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-310543
公開番号（公開出願番号）：特開2002-113430
特許番号：特許第3881169号
出願日： 2000年10月11日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 基板に付着する不要物を液体の噴射によって除去する基板処理装置であって、 それぞれ、液体を粒状に噴射するとともに、噴射する液体の粒径が異なる複数のノズルと、 基板を搬送する搬送機構と、を備え、 前記複数のノズルは、基板の搬送に従って基板に噴射される液体の粒径が次第に小さくなるように配置されている、 基板処理装置。

IPC (6件)：

B08B 3/02 ( 200 6.01) ,  G02F 1/13 ( 200 6.01) ,  G02F 1/1333 ( 200 6.01) ,  H01L 21/304 ( 200 6.01) ,  H05K 3/00 ( 200 6.01) ,  H05K 3/26 ( 200 6.01)

FI (7件)：

B08B 3/02 C ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/133 500 ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 643 Z ,  H05K 3/00 Z ,  H05K 3/26 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 被洗浄基板の洗浄方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-143409   出願人：株式会社東芝, 株式会社芝浦製作所
• 洗浄装置および洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-127984   出願人：三菱電機株式会社, 菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-108354   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置及び洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-156545   出願人：キヤノン株式会社