特許
J-GLOBAL ID:201103078503327530
電磁加熱調理器用トッププレート
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (3件):
目次 誠
, 中山 和俊
, 宮▲崎▼ 主税
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-173062
公開番号(公開出願番号):特開2011-216457
出願日: 2010年07月30日
公開日(公表日): 2011年10月27日
要約:
【課題】ガラス基板の上に耐熱樹脂層が形成されている電磁加熱調理器用トッププレートであって、耐熱性に優れた電磁加熱調理器用トッププレートを提供する。【解決手段】電磁加熱調理器用トッププレート1は、ガラス基板2と、ガラス基板2の上に形成されている耐熱樹脂層4とを備えている。耐熱樹脂層4は、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを含む。耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量は、35質量%〜75質量%の範囲内にある。シリコーン樹脂は、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂である。シリコーン樹脂において、シリコン原子に対するフェニル基のモル比((フェニル基)/(シリコン原子))Ph/Siが0.1以下である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
ガラス基板と、
前記ガラス基板の上に形成されている耐熱樹脂層とを備える電磁加熱調理器用トッププレートであって、
前記耐熱樹脂層は、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを含み、
前記耐熱樹脂層における前記無機顔料粉末の含有量が、35質量%〜75質量%の範囲内にあり、
前記シリコーン樹脂が、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂であり、
前記シリコーン樹脂において、シリコン原子に対するフェニル基のモル比((フェニル基)/(シリコン原子))Ph/Siが0.1以下である電磁加熱調理器用トッププレート。
IPC (5件):
H05B 6/12
, F24C 15/10
, C03C 17/30
, C03C 17/42
, C03C 17/38
FI (5件):
H05B6/12 305
, F24C15/10 B
, C03C17/30 A
, C03C17/42
, C03C17/38
Fターム (13件):
3K051AB02
, 3K051CD44
, 4G059AA01
, 4G059AA15
, 4G059AC08
, 4G059FA22
, 4G059FA28
, 4G059FB08
, 4G059GA01
, 4G059GA02
, 4G059GA04
, 4G059GA15
, 4G059GA16
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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