特許

J-GLOBAL ID：201103078671925982

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法

発明者： 三枝 浩 ,  岩戸 薫 ,  平野 修史 ,  飯塚 裕介
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-281055
公開番号（公開出願番号）：特開2011-002805
出願日： 2009年12月10日
公開日（公表日）： 2011年01月06日
要約：

【課題】発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)極性変換基を少なくとも1つ有する繰り返し単位(c)を有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)極性変換基を少なくとも1つ有する繰り返し単位(c)を有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/28

FI (7件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/28

Fターム (92件)：

2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA10 ,  2H096EA05 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF19P ,  2H125AF20P ,  2H125AF21P ,  2H125AF22P ,  2H125AF36P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF55P ,  2H125AF70P ,  2H125AH03 ,  2H125AH12 ,  2H125AH14 ,  2H125AH15 ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ12X ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ14Y ,  2H125AJ16X ,  2H125AJ16Y ,  2H125AJ23Y ,  2H125AJ43Y ,  2H125AJ54X ,  2H125AJ63Y ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67Y ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AJ75Y ,  2H125AJ88Y ,  2H125AM09P ,  2H125AM12P ,  2H125AM22P ,  2H125AM23P ,  2H125AM27P ,  2H125AM29P ,  2H125AM30P ,  2H125AM43P ,  2H125AM54P ,  2H125AM66P ,  2H125AM86P ,  2H125AM94P ,  2H125AM99P ,  2H125AN08P ,  2H125AN31P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN54P ,  2H125AN57P ,  2H125AN62P ,  2H125AN63P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA01P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125CD07P ,  2H125CD31 ,  2H125CD35 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BB18P ,  4J100BC53P ,  4J100BC59P ,  4J100CA01 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (7件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-247832   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-198897   出願人：富士フイルム株式会社
• 高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-243981   出願人：信越化学工業株式会社
• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-097649   出願人：信越化学工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-352274   出願人：富士フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-144470   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-317487   出願人：東京応化工業株式会社