特許
J-GLOBAL ID：201103081196820829

光学的な記録装置及び方法並びに露光装置及び方法

発明者：
谷口 幸夫

谷口 幸夫 について


出願人/特許権者：
株式会社 液晶先端技術開発センター

株式会社 液晶先端技術開発センター について


代理人 (1件)： 松永 宣行
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-322598
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133201
特許番号：特許第3881865号
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 光源からの光を、位相シフトマスクに準じる波面を形成するために振幅変調された光と位相変調された光とを含む変調光に変換する光変換手段と、前記変調光を被露光物面に結像させる結像手段とを含み、 前記光変換手段は、前記光源から導かれた光の少なくとも1部を振幅変調又は位相変調する第1の空間光変調器であって前記振幅変調量又は位相変調量を制御可能な第1の空間光変調器と、前記第1の空間光変調器で変調された光を結像させる第1の結像光学系と、前記第1の結像光学系の結像位置に設けられ前記第1の結像光学系により結像された光の少なくとも1部を位相変調又は振幅変調する第2の空間光変調器であって前記位相変調量又は振幅変調量を制御可能な第2の空間光変調器とを含み、前記結像手段は、前記第2の空間光変調器で変調された光を前記被露光物面に結像させる第2の結像光学系を含む、光学的な記録装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 515 A ,  G03F 7/20 521
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
  • 投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-369954   出願人：三菱電機株式会社
  • 特開平4-293013
  • 露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-346753   出願人：オリンパス光学工業株式会社
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