荷電ビーム描画装置、荷電ビーム描画方法、およびコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：三好秀和 , 岩▲崎▼ 幸邦 , 川又澄雄 , 中村友之 , 伊藤正和 , 高橋俊一 , 高松俊雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-217616
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033265
特許番号：特許第3964606号
出願日： 2000年07月18日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】試料を載置するステージと、前記試料に描画する、複数種のショットパターンに成形する荷電ビームを発生する荷電ビーム光学系と、描画データに基づき、前記荷電ビーム光学系および前記ステージの動作を制御する制御装置系とを有し、前記制御装置系が、前記試料上の描画領域を前記荷電ビームの主偏向ビームの偏向幅で決まるフレーム領域に分け、該フレーム領域ごとに、所定方向に前記ステージを移動させながら、描画パターンに応じたショット露光を行うように、前記ステージと前記ビーム光学系を制御する際に、前記フレーム領域を任意幅に分割した小領域ごとに、各ショットパターンの分布を求め、各ショットパターンごとにビームのパターン成形に要するセトリング時間とショット位置決めのセトリング時間とを比較してより長い方をショットごとの第1律速描画時間として、前記第1律速描画時間に基づき前記小領域の第2律速描画時間を算出し、さらに前記第2律速描画時間に基づきステージの移動速度を算出することを特徴とする荷電ビーム描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , H01J 37/305 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/30 541 J , G03F 7/20 504 , H01J 37/305 B

引用特許：

審査官引用 (10件)

荷電ビーム描画方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-199511 出願人：株式会社東芝
荷電粒子ビーム露光方法及び装置並びに処理時間予測方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-093368 出願人：富士通株式会社, 株式会社アドバンテスト
特開平4-061221

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