真空処理装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：藤田考晴 , 上田邦生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-182773
公開番号（公開出願番号）：特開2011-035327
出願日： 2009年08月05日
公開日（公表日）： 2011年02月17日
要約：

【課題】プラズマ生成領域へのエネルギ伝送の効率化と、電界強度分布の均一化を図ることにより、大面積で高品質な膜を均一に製膜することができる真空処理装置を提供する。【解決手段】互いに対向して配置され、間にプラズマ処理が施される基板が配置される放電用のリッジ部であるリッジ電極21,21を有するリッジ導波管からなる放電室2と、高周波電力を放電室2に供給する電源5と、内部導体41および外部導体42からなり、電源5から放電室2へ高周波電力を導く同軸線路4Aと、リッジ部31,31を有するリッジ導波管からなり、放電室2が延びる方向Lに隣接して配置され、同軸線路4Aから放電室2へ高周波電力を導く変換部3Aと、が設けられ、リッジ部31,31の一方は、内部導体41と電気的に接続され、リッジ部31,31の他方は、外部導体42と電気的に接続されていることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

互いに対向して配置され、間にプラズマ処理が施される基板が配置される放電用のリッジ部であるリッジ電極を有するリッジ導波管からなる放電室と、高周波電力を前記放電室に供給する電源と、内部導体および外部導体からなり、前記電源から前記放電室へ前記高周波電力を導く同軸線路と、リッジ部を有するリッジ導波管からなり、前記放電室が延びる方向に隣接して配置され、前記同軸線路から前記放電室へ前記高周波電力を導く変換部と、が設けられ、前記リッジ部の一方は、前記内部導体と電気的に接続され、前記リッジ部の他方は、前記外部導体と電気的に接続されていることを特徴とする真空処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 , H01L 21/205 , C23C 16/505 , C23C 16/24

FI (4件)：

H01L21/31 C , H01L21/205 , C23C16/505 , C23C16/24

Fターム (19件)：

4K030AA06 , 4K030BA29 , 4K030BA30 , 4K030FA01 , 4K030FA04 , 4K030JA19 , 4K030KA30 , 4K030KA32 , 5F045AA08 , 5F045AB03 , 5F045AB04 , 5F045AB33 , 5F045AC01 , 5F045BB02 , 5F045CA13 , 5F045CA15 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH04

引用特許：

出願人引用 (10件)

特開昭61-214523
特開平3-193880
導波管およびカーボン系薄膜生成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-321950 出願人：株式会社東芝

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