材料処理のための新規なRFプラズマソース

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (9件)：辻居幸一 , 熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之 , 上杉浩 , 長谷川芳樹 , 山田行一 , 池田成人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-232870
公開番号（公開出願番号）：特開2011-071121
出願日： 2010年10月15日
公開日（公表日）： 2011年04月07日
要約：

【課題】コイルとプラズマ間の容量結合を減らし、プラズマチューブ内表面の腐食を有意に減らすRFプラズマソースの提供。【解決手段】プラズマソース200は、第1コイルセグメント204と第2コイルセグメント206を有するコイル202、コイル202に接続されたRF電源208、および第1コイルセグメント204と第2コイルセグメント206間に配設されたエンクロージャ210を備える。さらに中間コイルセグメント222は、第1コイルセグメント204、第2コイルセグメント206間に電圧ノード(接地に関連する低電圧領域)を提供する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

遠隔の場所から処理チャンバへプラズマを供給する装置であって、第1コイルセグメントと第2コイルセグメントと、前記第1コイルセグメント及び第2コイルセグメントを接続する中間コイルセグメントを有するコイルと、前記コイルに接続されるRF電源と、前記中間コイルセグメントに隣接して、前記第1コイルセグメントと第2コイルセグメントの間に配設されるエンクロージャとを備え、前記エンクロージャは、前記エンクロージャの中心を通る軸が前記第1コイルセグメントの中心及び前記第2コイルセグメントの中心を通る軸に対し実質的に垂直になるように前記第1コイルセグメント及び前記第2コイルセグメントに対し実質的に垂直の角度で配設され、前記第1コイルセグメント及び前記第2コイルセグメントが前記エンクロージャの外面から間隔を開けて配置され、前記中間コイルセグメントが前記第1コイルセグメント及び第2コイルセグメントの間の水平な延長部を提供し、前記エンクロージャの近傍で近ゼロのコイル電圧を提供している装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 , H01L 21/306 , H01L 21/205 , C23C 16/505

FI (4件)：

H05H1/46 L , H01L21/302 101C , H01L21/205 , C23C16/505

Fターム (18件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA04 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 5F004AA15 , 5F004BA03 , 5F004BB13 , 5F004CA02 , 5F004CA03 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA17 , 5F045AA08 , 5F045EB06 , 5F045EH01 , 5F045EH11 , 5F045EH18

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開昭48-044176
共振器
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-101916 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
半導体の製造のための高エネルギー電子を生成するためのヘリコン波励振
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-287435 出願人：アメリカ合衆国

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