特許
J-GLOBAL ID:201103085538780927

粒径分布測定装置および粒径分布測定装置の制御プログラム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 藤本 英夫 ,  西村 幸城
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-217807
公開番号(公開出願番号):特開2003-028778
特許番号:特許第4505158号
出願日: 2001年07月18日
公開日(公表日): 2003年01月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 分散媒または洗浄液を供給する自動分散媒供給ユニットと、分散媒に測定対象試料を混合攪拌してサンプル溶液を生成し、このサンプル溶液をセルに循環させる循環系と、 前記セルに循環されるサンプル溶液に光を照射する光源およびこの光源からの光の透過光ならびに散乱光の強度を測定する検出器を有する光学系と、 測定後にサンプル溶液を循環系から排水したのち、自動分散媒供給ユニットから前記循環系に分散媒または洗浄液を供給して該分散媒または洗浄液を循環系に循環させ攪拌洗浄を行ない、これを排水する洗浄動作を順次行なう処理部とを有し、 前記処理部は、前記検出器の出力に基づいて攪拌洗浄された後の前記循環系の汚れ度合いを判断する手段、汚れ度合いが予め設定された所定値以下に達していないと判断された場合、前記洗浄動作を繰り返す手段、汚れ度合いが前記所定値以下に達していると判断された場合、洗浄動作を停止して洗浄動作に用いた分散媒または洗浄液を循環系から排水して、次の測定に備える手段、を有していることを特徴とする粒径分布測定装置。
IPC (2件):
G01N 15/02 ( 200 6.01) ,  G01N 1/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
G01N 15/02 A ,  G01N 1/00 101 G ,  G01N 1/00 101 N
引用特許:
審査官引用 (4件)
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