特許
J-GLOBAL ID：201103085748185177

光デバイス、光走査装置及び画像形成装置

発明者：
星 文和

星 文和 について

, 
石井 稔浩

石井 稔浩 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-099646
公開番号（公開出願番号）：特開2011-233549
出願日： 2010年04月23日
公開日（公表日）： 2011年11月17日
要約：
【課題】光量変動の少ない安定した光を射出することができる光デバイスを提供する。【解決手段】 レーザチップ100、受光素子150、カバーガラス300などを有し、受光素子150は、レーザチップ100の+X側に配置されている。カバーガラス300は、その表面で反射された光束が、ブリュースター角と略一致する入射角で、受光素子150に入射するように、XZ面内でX軸方向に対して傾斜して配置されている。レーザチップ100は、射出領域内に、光学的厚さがλ/4のSiNからなる長方形状の透明層と透明層がX軸方向に対向して形成され、射出領域の中心部の相対的に反射率が高い領域は、射出領域の中心を通りX軸に平行な方向に関する幅が、射出領域の中心を通りY軸に平行な方向に関する幅よりも小さい形状異方性を有している。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
射出領域内において中心部の反射率を周辺部に対して相対的に高くするための透明な誘電体膜を有する少なくとも1つの面発光レーザ素子と; 第1の方向に関して前記面発光レーザ素子の一側に配置された受光素子と; 前記面発光レーザ素子から射出された光の光路上に配置され、該光の一部をモニタ用光として前記受光素子に向けて反射する透明部材と;を備え、 前記射出領域内における相対的に反射率が高い領域は、前記射出領域の中心を通り前記第1の方向に関する幅が、前記射出領域の中心を通り前記第1の方向に直交する第2の方向に関する幅よりも小さい形状異方性を有することを特徴とする光デバイス。
IPC (4件)：
H01S 5/183 ,  G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113
FI (4件)：
H01S5/183 ,  G02B26/10 F ,  B41J3/00 D ,  H04N1/04 104A
Fターム (29件)：
2C362AA03 ,  2C362AA07 ,  2C362AA53 ,  2C362AA54 ,  2C362BA90 ,  2H045AA01 ,  2H045BA23 ,  2H045CB65 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072BA13 ,  5C072BA17 ,  5C072DA04 ,  5C072DA21 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA13 ,  5C072HB04 ,  5F173AC03 ,  5F173AC13 ,  5F173AC14 ,  5F173AC52 ,  5F173AR13 ,  5F173MA06 ,  5F173MC15 ,  5F173MC18 ,  5F173ME88 ,  5F173MF04 ,  5F173MF29
引用特許：
審査官引用 (6件)
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