特許
J-GLOBAL ID:201103086924725309

シリコン結晶を得るためのシリコン粉末の処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-527304
公開番号(公開出願番号):特表2010-540392
出願日: 2008年10月03日
公開日(公表日): 2010年12月24日
要約:
本発明の実施形態は、シリコンからシリコン結晶を得るためのプロセスに関する。この方法は、シリコンを含有する混合物を提供するために、シリコン粉末を溶媒金属と接触させるステップと、第1の融解液体を提供するために、浸漬下でシリコンを溶解させるステップと、ドロスおよび第2の融解液体を提供するために、第1の融解液体を第1のガスと接触させるステップと、ドロスと第2の融解液体とを分離するステップと、第1のシリコン結晶および第1の母液を形成するために、該第2の融解液体を冷却するステップと、第1のシリコン結晶と第1の母液とを分離するステップとを含む。
請求項(抜粋):
シリコン粉末からシリコン結晶を得るためのプロセスであって、 シリコンを含有する混合物を提供するために、シリコン粉末を溶媒金属と接触させることと、 第1の融解液体を提供するために、浸漬下で該シリコンを融解することと、 ドロスおよび第2の融解液体を提供するために、該第1の融解液体を第1ガスと接触させることと、 該ドロスと該第2の融解液体とを分離することと、 第1のシリコン結晶および第1の母液を形成するために、該第2の融解液体を冷却することと、 該第1のシリコン結晶と該第1の母液とを分離することと を含む、プロセス。
IPC (3件):
C01B 33/02 ,  B09B 3/00 ,  B09B 5/00
FI (4件):
C01B33/02 E ,  B09B3/00 303A ,  B09B3/00 304J ,  B09B5/00 C
Fターム (23件):
4D004AA16 ,  4D004AB01 ,  4D004AB03 ,  4D004BA05 ,  4D004CA09 ,  4D004CA12 ,  4D004CA29 ,  4D004CA32 ,  4D004CA34 ,  4D004CA42 ,  4D004CB01 ,  4D004CB31 ,  4D004CC01 ,  4D004CC04 ,  4D004CC11 ,  4D004CC12 ,  4D004DA02 ,  4D004DA06 ,  4G072AA01 ,  4G072BB12 ,  4G072GG03 ,  4G072NN01 ,  4G072UU01
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (8件)
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