特許
J-GLOBAL ID:201103086924725309
シリコン結晶を得るためのシリコン粉末の処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-527304
公開番号(公開出願番号):特表2010-540392
出願日: 2008年10月03日
公開日(公表日): 2010年12月24日
要約:
本発明の実施形態は、シリコンからシリコン結晶を得るためのプロセスに関する。この方法は、シリコンを含有する混合物を提供するために、シリコン粉末を溶媒金属と接触させるステップと、第1の融解液体を提供するために、浸漬下でシリコンを溶解させるステップと、ドロスおよび第2の融解液体を提供するために、第1の融解液体を第1のガスと接触させるステップと、ドロスと第2の融解液体とを分離するステップと、第1のシリコン結晶および第1の母液を形成するために、該第2の融解液体を冷却するステップと、第1のシリコン結晶と第1の母液とを分離するステップとを含む。
請求項(抜粋):
シリコン粉末からシリコン結晶を得るためのプロセスであって、
シリコンを含有する混合物を提供するために、シリコン粉末を溶媒金属と接触させることと、
第1の融解液体を提供するために、浸漬下で該シリコンを融解することと、
ドロスおよび第2の融解液体を提供するために、該第1の融解液体を第1ガスと接触させることと、
該ドロスと該第2の融解液体とを分離することと、
第1のシリコン結晶および第1の母液を形成するために、該第2の融解液体を冷却することと、
該第1のシリコン結晶と該第1の母液とを分離することと
を含む、プロセス。
IPC (3件):
C01B 33/02
, B09B 3/00
, B09B 5/00
FI (4件):
C01B33/02 E
, B09B3/00 303A
, B09B3/00 304J
, B09B5/00 C
Fターム (23件):
4D004AA16
, 4D004AB01
, 4D004AB03
, 4D004BA05
, 4D004CA09
, 4D004CA12
, 4D004CA29
, 4D004CA32
, 4D004CA34
, 4D004CA42
, 4D004CB01
, 4D004CB31
, 4D004CC01
, 4D004CC04
, 4D004CC11
, 4D004CC12
, 4D004DA02
, 4D004DA06
, 4G072AA01
, 4G072BB12
, 4G072GG03
, 4G072NN01
, 4G072UU01
引用特許:
出願人引用 (5件)
-
特開昭56-022620
-
ケイ素の精製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-006488
出願人:住友化学工業株式会社
-
特開昭60-122713
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審査官引用 (8件)
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特開昭56-022620
-
ケイ素の精製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-006488
出願人:住友化学工業株式会社
-
特開昭60-122713
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