特許
J-GLOBAL ID：201103088301677764

イオン注入装置

発明者：
永田 智孝

永田 智孝 について


出願人/特許権者：
NECエレクトロニクス株式会社

NECエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 尾身 祐助
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-059815
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250501
特許番号：特許第3425921号
出願日： 2000年03月06日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 イオンビームを発生させるイオンビーム発生手段と、電子を導入する電子導入口と、前記イオンビームを通過させる中空部と、を有し、電子を反射させるリフレクターと、前記リフレクターを通過する前記イオンビームの電荷量を測定するイオンビーム測定手段と、前記リフレクターの前記電子導入口に臨む位置に開口を有し、電子を発生させる電子発生手段と、前記電子発生手段の前記リフレクターへの電子の供給状態を変更することのできる電子発生状態制御手段と、測定モードと非測定モードとを有し、測定モードにおいて前記電子発生手段から前記リフレクターへ供給される電子の供給量を測定する電子測定手段と、を備えるイオン注入装置であって、前記電子測定手段が、前記イオンビームの近傍にその走査方向に沿って配置された複数の電極と、前記複数の電極のそれぞれに接続された複数の電流計と、各電流計と接地点との間に接続されたスイッチおよび電子測定用電源と、を備えており、該電子測定手段が、前記イオンビームが試料上に本来のイオン注入動作を行っていないときに前記スイッチが閉成されて前記電子発生手段から供給される電子を測定することを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  H01L 21/265
FI (3件)：
H01J 37/317 Z ,  C23C 14/48 B ,  H01L 21/265 N
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM