特許
J-GLOBAL ID：201103089548070770
薄膜作製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (18件)：
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 岡部 讓
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 朝日 伸光
, 三山 勝巳
, 岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 岡部 讓
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 朝日 伸光
, 三山 勝巳
, 光石 俊郎
, 光石 忠敬
, 田中 康幸
, 松元 洋
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-008230
公開番号（公開出願番号）：特開2007-191729
特許番号：特許第4405973号
出願日： 2006年01月17日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を収容可能なチャンバに接続されチャンバ内に薄膜の材料となるガスの供給及び薄膜析出のためのラジカルの供給を行う材料供給装置であって、
加熱手段と、
少なくとも一種類の高蒸気圧ハロゲン化物を生成し得る元素を含む材料で形成される被エッチング部材と、
前記加熱手段により所定の温度に加熱された前記被エッチング部材にハロゲンガスを接触させて前記元素とハロゲンとの化合物である前駆体のガスを形成して前記チャンバ内に供給する材料通路と、
ハロゲンガスを前記加熱手段により加熱してハロゲンガスラジカルを得て前記チャンバ内に供給するラジカル通路と
を備えたことを特徴とする材料供給装置。
IPC (2件)：
C23C 16/14 ( 200 6.01)
, C23C 16/455 ( 200 6.01)
