シリカ粉及びシリカ容器並びにそれらの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-237686
公開番号（公開出願番号）：特開2011-084428
出願日： 2009年10月14日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：

【課題】高寸法精度であり、内壁が実質的に気泡を含まない肉厚の透明シリカガラス層であるとともに、高温でも高い耐久性を有するシリカ容器を低コストで製造できるシリカ容器及びその製造方法、並びにそのようなシリカ容器を製造するためのシリカ粉及びその製造方法を提供する。【解決手段】回転対称性を有し、シリカを主成分とし、少なくとも外周部分に気泡を含有する基体と、該基体の内表面上に形成された、透明シリカガラスからなる内層とを具備するシリカ容器の製造方法であって、少なくとも、前記内層を形成するための原料粉として、粒径が10〜1000μmであり、Ca、Sr、Baを50〜5000wt.ppmの合計濃度で含有し、真空下にて1000°Cに加熱したときの水素分子の放出量が3×1016〜3×1019分子/gであるシリカ粉を準備し、該内層形成用原料粉であるシリカ粉から、前記内層を形成するシリカ容器の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

シリカ容器製造用のシリカ粉であって、粒径が10〜1000μmであり、 Ca、Sr、Baを50〜5000wt.ppmの合計濃度で含有し、真空下にて1000°Cに加熱したときの水素分子の放出量が3×1016〜3×1019分子/gであることを特徴とするシリカ粉。

IPC (3件)：

C03B 20/00 , C30B 15/10 , C30B 29/06

FI (5件)：

C03B20/00 F , C03B20/00 D , C03B20/00 H , C30B15/10 , C30B29/06 502B

Fターム (8件)：

4G014AH00 , 4G077AA02 , 4G077BA04 , 4G077CF10 , 4G077EG02 , 4G077HA12 , 4G077PD01 , 4G077PD05

引用特許：

審査官引用 (4件)

バリウムドープされた内壁を有するシリカガラスるつぼ
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-241832 出願人：ヘリーアスシンエツアメリカインク, 信越石英株式会社
水素ドープシリカ粉及びその製造方法、並びにそれを用いた石英ガラスルツボ及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-143642 出願人：信越石英株式会社
石英ガラスルツボ用合成シリカガラス粉及びその製造方法、並びに合成シリカガラス粉を用いた石英ガラスルツボの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-076101 出願人：東芝セラミックス株式会社

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