特許
J-GLOBAL ID：201103090143911724
ウェハ処理装置
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 山田 行一
, 沖本 一暁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-118042
公開番号（公開出願番号）：特開2000-357722
特許番号：特許第4620214号
出願日： 2000年04月19日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 ウェハ処理装置であって、
ウェハ処理位置でウェハを連続的に処理する真空室と、
ウェハを前記真空室に装入する2つのロードロックと、
ウェハを前記ロードロックからウェハ処理位置へ搬送する機構とを備え、
各ロードロックは、選択的に操作されて外気から前記ロードロックを封止する外部バルブ、選択的に操作されて真空室から前記ロードロックを封止する内部バルブ、および前記ロードロックの排気・加圧用ポートを有し、一方のロードロックは、もう一方のロードロックの上方に位置し、
前記機構は、軸を中心にして回転する第1の把持アーム及び第2の把持アームと、前記第1及び第2の把持アームを駆動するロボットとを含み、
両方の前記ロードロックは、前記軸から同一径距離に配置されており、
前記第1の把持アームは前記2つのロードロックに接近可能であり、
前記第2の把持アームは前記2つのロードロックに接近可能であり、
前記ロボットは、前記第1及び第2の把持アームが周りを回動する前記軸の方向への軸移動、並びに前記第1及び第2の把持アームが前記内部バルブを介して前記ロードロックの位置に揺動するように、前記軸を中心とした回転運動のみを提供し、
前記第2の把持アームは、前記軸の方向に沿って前記第1の把持アームと一体に可動であるとともに、前記第1の把持アームとは別個に前記軸を中心として回転可能であり、
前記第2の把持アームのウェハ把持部は、前記第1の把持アームのウェハ把持部の真下に配置されているウェハ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/677 ( 200 6.01)
, B65G 49/07 ( 200 6.01)
, H01J 37/317 ( 200 6.01)
, H01L 21/265 ( 200 6.01)
H01L 21/68 A
, B65G 49/07 C
, H01J 37/317 B
, H01L 21/265 603 C
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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