特許
J-GLOBAL ID：201103090549999614

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
藤原 匡之

藤原 匡之 について

, 
脇阪 幸也

脇阪 幸也 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-199095
公開番号（公開出願番号）：特開2001-027804
特許番号：特許第4424630号
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂および光酸発生剤を含有するポジ型化学増幅型レジスト組成物において、ジイソシアネートまたはジイソシアネートのイソシアヌレート体のイソシアネート基をブロック剤で保護したブロック型ポリイソシアネート化合物を含み、前記酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂が、ラクトン骨格を有する単量体単位と、該ラクトン骨格を有する単量体単位とは異なる脂環式骨格を有する単量体単位とを含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C08G 18/80 ( 200 6.01) ,  H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  C08G 18/80 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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