特許
J-GLOBAL ID:201103090714670061

合成石英ガラスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-383199
公開番号(公開出願番号):特開2001-247317
特許番号:特許第4496421号
出願日: 2000年12月18日
公開日(公表日): 2001年09月11日
請求項(抜粋):
【請求項1】 同心円状に複数のノズルを有するバーナーの中心部のノズルからシリカ製造原料ガス及びフッ素化合物ガスを反応域に供給し、中心ノズルの外側に配設されている第二のノズルから酸素ガス、更にその外側に配設されているノズルから酸素ガス及び/又は水素ガスを反応域に供給し、この反応域においてシリカ製造原料ガスの火炎加水分解によりシリカ微粒子を生成させると共に、上記反応域に回転可能に配置された基材に上記シリカ微粒子を堆積させて多孔質シリカ母材を作製し、この母材を溶融させて石英ガラスを得る合成石英ガラスの製造方法において、原料ガス流量に対する第二のノズルの酸素ガス流量を化学量論比の1.5〜3.5倍の酸素過剰条件とすることを特徴とする合成石英ガラスの製造方法。
IPC (6件):
C03B 8/04 ( 200 6.01) ,  C03B 20/00 ( 200 6.01) ,  G02B 1/00 ( 200 6.01) ,  G02B 6/00 ( 200 6.01) ,  G03F 1/14 ( 200 6.01) ,  G03F 7/20 ( 200 6.01)
FI (6件):
C03B 8/04 H ,  C03B 20/00 F ,  G02B 1/00 ,  G02B 6/00 356 A ,  G03F 1/14 B ,  G03F 7/20 502
引用特許:
審査官引用 (8件)
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