特許
J-GLOBAL ID:201103092512578476
吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物、表示素子用層間絶縁膜及びその形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件):
天野 一規
, 藤本 勝誠
, 奥谷 優
, 池田 義典
, 小川 博生
, 石田 耕治
, 森田 慶子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-059895
公開番号(公開出願番号):特開2011-248331
出願日: 2011年03月17日
公開日(公表日): 2011年12月08日
要約:
【課題】本発明は、高い放射線感度を有し、また塗布ムラのない高度な平坦性(膜厚均一性)を有する表示素子用層間絶縁膜を形成することができ、さらに高速塗布が可能な吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位(I)とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物、並びに[C]有機溶媒を含有し、固形分濃度が10質量%以上30質量%以下であり、25°Cにおける粘度が2.0mPa・s以上12mPa・s以下であり、かつ[C]有機溶媒として、少なくとも(C1)20°Cにおける蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物である。 【選択図】なし
請求項(抜粋):
[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位(I)とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、
[B]オキシムスルホネート化合物及びオニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物、並びに
[C]有機溶媒
を含有し、
固形分濃度が10質量%以上30質量%以下であり、25°Cにおける粘度が2.0mPa・s以上12mPa・s以下であり、かつ
[C]有機溶媒として、少なくとも(C1)20°Cにおける蒸気圧が0.1mmHg以上1mmHg未満の有機溶媒を含む吐出ノズル式塗布法用ポジ型感放射線性組成物。
IPC (2件):
FI (2件):
G03F7/004 501
, G03F7/039 601
Fターム (50件):
2H125AC32
, 2H125AC33
, 2H125AC35
, 2H125AE06P
, 2H125AE13P
, 2H125AE15P
, 2H125AF16P
, 2H125AF21P
, 2H125AF35P
, 2H125AF46P
, 2H125AF52P
, 2H125AF70P
, 2H125AH05
, 2H125AH06
, 2H125AH07
, 2H125AH29
, 2H125AJ14X
, 2H125AJ14Y
, 2H125AJ42Y
, 2H125AJ44Y
, 2H125AJ63X
, 2H125AJ63Y
, 2H125AJ64X
, 2H125AJ64Y
, 2H125AJ68X
, 2H125AJ68Y
, 2H125AJ70X
, 2H125AN15P
, 2H125AN22P
, 2H125AN23P
, 2H125AN32P
, 2H125AN34P
, 2H125AN36P
, 2H125AN42P
, 2H125AN82P
, 2H125AN85P
, 2H125BA01P
, 2H125BA05P
, 2H125BA09P
, 2H125BA26P
, 2H125BA32P
, 2H125BA33P
, 2H125CA22
, 2H125CB02
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 2H125CD11P
, 2H125CD15P
, 2H125CD31
, 2H125CD40
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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