特許
J-GLOBAL ID:201103092974675493
微細構造体の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山川 政樹
, 山川 茂樹
, 黒川 弘朗
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-118081
公開番号(公開出願番号):特開2011-245565
出願日: 2010年05月24日
公開日(公表日): 2011年12月08日
要約:
【課題】有機樹脂からなる犠牲層をより効率よく除去するとともに、微細構造体にいたずらにダメージを与えてしまうことを抑制することを可能とした微細構造体の製造方法を提供する。【解決手段】試料をチャンバ12内に装填した後、真空ポンプ14を用いてチャンバ12の内部を真空引きする。続いて、バルブ18a〜18cを調整することによって、酸化ガス、フッ素系ガス、還元性ガスを、チャンバ12内に供給する。この後、電源装置20を作動させ、チャンバ12内に高周波交流電力を印可し、プラズマを発生させる。この状態のまま、所定の時間にわたって待ち、試料の犠牲層110をプラズマに暴露させることによって、試料の犠牲層110を除去する。このように、酸化ガスおよびフッ素系ガスに加え、還元性ガスを供給することによって、残渣116を生成することなく、効率よく犠牲層110を除去することができる。【選択図】図5
請求項(抜粋):
基板の上に有機樹脂から成る犠牲層と微細構造体の一部とを両者を接触させて形成する第1工程と、
前記犠牲層を除去する第2工程と
を少なくとも備え、
前記第2工程は、酸化ガス,フッ素系ガス,および還元性ガスから成る混合ガスをプラズマ種としたプラズマ処理により前記犠牲層を除去する
ことを特徴とする微細構造体の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (8件):
3C081AA18
, 3C081BA43
, 3C081BA48
, 3C081CA03
, 3C081CA14
, 3C081DA27
, 3C081DA45
, 3C081EA23
引用特許:
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