基板から炭素含有残渣類を除去する方法

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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 小野田浩之 , 西山雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-214883
公開番号（公開出願番号）：特開2006-074013
出願日： 2005年07月25日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：

【課題】基板から炭素含有残渣類を除去するための方法を提供する。【解決手段】酸素ソース、フッ素ソース、及び随意選択的に追加のガスを含むプロセスガスを用意すること、ここで、該プロセスガス中でフッ素に対する酸素のモル比が、約1〜約10の範囲にわたる:1種以上のエネルギーソースを用いて該プロセスガスを活性化し、反応性種を供給し;そして該反応性種と該基板の該表面とを接触させ、該表面から該炭素含有残渣を揮発させて、除去すること、を含み、基板表面の少なくとも一部から炭素含有残渣を除去する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板表面の少なくとも一部から炭素含有残渣を除去するための方法であって、該方法が: 酸素ソース、フッ素ソース、及び随意選択的に追加のガスを含むプロセスガスを用意すること、ここで、該プロセスガス中でフッ素に対する酸素のモル比が、約1〜約10の範囲にわたる; 1種以上のエネルギーソースを用いて該プロセスガスを活性化し、反応性種を供給すること;そして該反応性種と該基板表面とを接触させ、該表面から該炭素含有残渣を揮発させて、除去すること、を含む残渣を除去するための方法。

IPC (6件)：

H01L 21/205 , C23C 16/44 , C23C 14/00 , H01L 21/306 , H01L 21/312 , H01L 21/304

FI (7件)：

H01L21/205 , C23C16/44 J , C23C14/00 B , H01L21/302 101H , H01L21/312 C , H01L21/304 647A , H01L21/304 647Z

Fターム (30件)：

4K029AA06 , 4K029AA24 , 4K029BD02 , 4K029FA04 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030DA03 , 4K030LA15 , 5F004AA15 , 5F004BD04 , 5F004DA00 , 5F004DA18 , 5F004DA20 , 5F004DA22 , 5F004DA23 , 5F004DA24 , 5F004DA25 , 5F004DA26 , 5F004DA27 , 5F004DA28 , 5F045AA08 , 5F045AB39 , 5F045AC07 , 5F045BB14 , 5F045EB06 , 5F058AC03 , 5F058AD05 , 5F058AE10 , 5F058AF02 , 5F058BH20

引用特許：

審査官引用 (7件)

集積回路配線のためのダマシーンキャップ層法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-199866 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテッド
エッチングガス
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-239339 出願人：セントラル硝子株式会社
CVD装置のクリーニング方法およびそのためのクリーニング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-082840 出願人：財団法人地球環境産業技術研究機構

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