特許
J-GLOBAL ID:201103093534735962
ヒ素を含有する水の処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松尾 憲一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-244597
公開番号(公開出願番号):特開2011-088091
出願日: 2009年10月23日
公開日(公表日): 2011年05月06日
要約:
【課題】ヒ素の再溶出を可及的に防止しつつ、低コストでヒ素の除去処理を可能としたヒ素を含有する水の処理方法を提供すること。【解決手段】ヒ素を含有した原水を処理槽に供給し、原水中のヒ素を曝気による空気酸化のみで酸化させるとともに、前記原水中に鉄塩を添加してヒ素と鉄とを共沈させて前記原水中からヒ素を除去し、しかも、発生した汚泥を前記処理槽から引き抜くことなく繰り返し利用することにより、ヒ酸鉄を生成しつつ汚泥の高密度化を生じさせて、ヒ素の再溶出を防止可能とした。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ヒ素を含有した原水を処理槽に供給し、原水中のヒ素を曝気による空気酸化のみで酸化させると共に、前記原水中に鉄塩を添加してヒ素と鉄とを共沈させて前記原水中からヒ素を除去し、しかも、発生した汚泥を前記処理槽から引き抜くことなく繰り返し利用することにより、ヒ素を溶出しにくい形態へと変化させつつ汚泥の高密度化を生じさせて、ヒ素の再溶出を防止可能としたことを特徴とするヒ素を含有する水の処理方法。
IPC (5件):
C02F 1/62
, C02F 1/74
, C02F 3/00
, C02F 3/12
, C02F 3/34
FI (6件):
C02F1/62 Z
, C02F1/74 Z
, C02F3/00 G
, C02F3/12 Q
, C02F3/34 Z
, C02F3/12 V
Fターム (31件):
4D028AC01
, 4D028BA04
, 4D028BB01
, 4D028BC03
, 4D028BD06
, 4D028BD16
, 4D028BE04
, 4D028CC04
, 4D028CD01
, 4D038AA08
, 4D038AB70
, 4D038AB81
, 4D038AB82
, 4D038BB06
, 4D038BB09
, 4D038BB13
, 4D038BB16
, 4D038BB17
, 4D038BB19
, 4D040DD05
, 4D040DD20
, 4D050AA12
, 4D050AB59
, 4D050BB01
, 4D050BD03
, 4D050BD08
, 4D050CA06
, 4D050CA09
, 4D050CA13
, 4D050CA15
, 4D050CA17
引用特許:
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