特許
J-GLOBAL ID：201103093712358507
露光装置及び露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福永 正也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-240645
公開番号（公開出願番号）：特開2011-085859
出願日： 2009年10月19日
公開日（公表日）： 2011年04月28日
要約：
【課題】簡易な構造であっても、マスクパターンを高い精度で基板表面に露光することができる露光装置及び露光方法を提供する。【解決手段】マスクパターンを形成してあるマスク4を保持するマスク保持部5と、露光対象となる基板2を保持する基板保持部3と、マスク4の下面と基板2の上面との間を密閉空間7とするシール部材6と、密閉空間7へ気体を供給する又は密閉空間7から気体を排出する給排部8とを有する。マスク保持部5及び/又は基板保持部3の温度を調整しつつ、光源9から照射された光により、マスクパターンを基板2の表面に露光する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
マスクパターンを形成してあるマスクを保持するマスク保持部と、
露光対象となる基板を保持する基板保持部と、
前記マスクの下面と前記基板の上面との間を密閉空間とするシール部材と、
前記密閉空間へ気体を供給する又は前記密閉空間から気体を排出する給排部と
を有し、
光源から照射された光により、前記マスクパターンを前記基板の表面に露光する露光装置において、
前記マスク保持部及び/又は前記基板保持部の温度を調整する温度調整部を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 511
2H097CA12
, 2H097GA45
, 5F046BA02
, 5F046CA02
, 5F046CC09
, 5F046CC11
, 5F046DA26
, 5F046DB02
, 5F046DB03
, 5F046DB08
, 5F046DC05
, 5F046DC12
, 5F146BA02
, 5F146CA02
, 5F146CC09
, 5F146CC11
, 5F146DA26
, 5F146DB02
, 5F146DB03
, 5F146DB08
, 5F146DC05
, 5F146DC12
