特許
J-GLOBAL ID:200903070238921655
プロキシミティ露光装置及び基板製造方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
高橋 浩三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-026230
公開番号(公開出願番号):特開2008-158545
出願日: 2008年02月06日
公開日(公表日): 2008年07月10日
要約:
【課題】プロキシミティ方式を用いたガラス基板の露光において、スループットを向上させる。【解決手段】フォトマスク20のパターンをガラス基板1a,1bに露光する露光位置と、ガラス基板1a,1bを搭載して移動する複数のステージと、各ステージ上にガラス基板1a,1bをロード/アンロードする第1及び第2のロード/アンロード位置a,bとを備え、露光位置を中央にして、第1及び第2のロード/アンロード位置a,bを両側に配置し、複数のステージのうち一つは、第1のロード/アンロード位置aと露光位置との間でガラス基板を移動し、他の一つのステージは、第2のロード/アンロード位置bと露光位置との間でガラス基板を移動する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
フォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けて、フォトマスクのパターンをガラス基板へ転写するプロキシミティ露光装置において、
フォトマスクのパターンをガラス基板に露光する露光位置と、
前記ガラス基板を搭載して移動する複数のステージと、
前記各ステージ上に前記ガラス基板をロード/アンロードする第1及び第2のロード/アンロード位置とを備え、
前記露光位置を中央にして、前記第1及び第2のロード/アンロード位置を両側に配置し、
前記複数のステージのうち一つは、前記第1のロード/アンロード位置と前記露光位置との間で前記ガラス基板を移動し、他の一つのステージは、前記第2のロード/アンロード位置と前記露光位置との間で前記ガラス基板を移動するように構成されたことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
IPC (2件):
FI (4件):
G03F7/20 501
, H01L21/30 502H
, H01L21/30 503A
, H01L21/30 509
Fターム (7件):
2H097GA45
, 2H097LA11
, 5F046AA04
, 5F046CC01
, 5F046CD01
, 5F046DA16
, 5F046DA26
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
プロキシミティ露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-189272
出願人:日立電子エンジニアリング株式会社
審査官引用 (17件)
全件表示
前のページに戻る